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雙重曝光效果是一個(gè)集藝術(shù)性和美麗性于一體的創(chuàng)意圖像技術(shù)，不論是攝影照片，還是視頻影像，在雙重曝光的作用下，都會(huì)呈現(xiàn)出不一樣的畫面效果。這款雙重曝光創(chuàng)建器在實(shí)現(xiàn)這種效果的同時(shí)，提供了非常簡單、易于編輯、修改的參數(shù)和屬性調(diào)節(jié)工具。

導(dǎo)入圖片并進(jìn)行摳像處理后，mask蒙版的角度、位置、B&W強(qiáng)度、漸變覆蓋、背景透明度等多個(gè)屬性都是可以進(jìn)行調(diào)節(jié)的。當(dāng)然研究它的制作方法才是重中之重。強(qiáng)烈推薦學(xué)習(xí)！

默認(rèn)的預(yù)覽版可以添加32張攝影圖片內(nèi)容+34段文本內(nèi)容，掌握制作方法后，完全可以進(jìn)行更多內(nèi)容的再創(chuàng)作和添加。

【版本要求】

建議使用10.5（AE CS5.5）或更高的AE版本打開

【插件要求】

需要Plexus插件，新CG兒AE插件網(wǎng)地址是csdlm.cn/aechajian/?p=386

另外壓縮包內(nèi)還包含了無需插件的No_Plugin版

【模板尺寸】

3840*2160

【時(shí)間長度】

預(yù)覽版時(shí)長1:24，可自定義

【文件大小】

543M